6月25日10:00-12:00（CET，歐洲中部時(shí)間），炬光科技首席科學(xué)家Wilfried Noell博士參加由 EPIC – European Photonics Industry Consortium 主辦的2025年德國慕尼黑光電展同期會議 EPIC 集成光子應(yīng)用論壇，并發(fā)表主題演講《共封裝“微”光學(xué)：CPO應(yīng)用及核心技術(shù)探析》，演講語言為英文。

報(bào)告摘要

硅光子（PIC）和外部激光光源（ELSFP）是推動高速收發(fā)器共封裝光學(xué)（CPO）技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵因素，為AI數(shù)據(jù)中心的規(guī)模化擴(kuò)張?zhí)峁┝酥匾С帧＞婀饪萍紝Ｗ⒂跒镻IC和ELSFP設(shè)計(jì)并提供定制化微光學(xué)元件，助力高效、可拆卸的光接口及光纖陣列單元（FAU）的制造。在本次演講中，我們展示適用于經(jīng)典波分復(fù)用（WDM）設(shè)計(jì)以及基于硅光子的CPO模塊的微透鏡、微棱鏡和其他特殊微光學(xué)元件的設(shè)計(jì)方案、核心技術(shù)及其關(guān)鍵器件。

聚焦光通信

炬光科技聚焦光通信市場戰(zhàn)略布局，深度滲透電信與數(shù)據(jù)通信兩大核心領(lǐng)域。公司憑借在微納光學(xué)領(lǐng)域構(gòu)建的先進(jìn)制備技術(shù)矩陣——涵蓋晶圓級同步結(jié)構(gòu)化激光光學(xué)制造技術(shù)、基于光刻-反應(yīng)離子蝕刻法的晶圓級微納光學(xué)精密加工技術(shù)、晶圓級微納光學(xué)（WLO）精密壓印工藝，以及精密模壓與冷加工技術(shù)，為全球光通信行業(yè)客戶量身打造高精度微光學(xué)一體化解決方案。

通過優(yōu)化光學(xué)元件性能，可顯著提升高速光網(wǎng)絡(luò)傳輸效率、降低數(shù)據(jù)中心能耗，并為下一代通信系統(tǒng)提供超低插入損耗與極致性能保障。炬光科技以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動，助力光通信產(chǎn)業(yè)突破性能瓶頸，加速構(gòu)建高效、智能、可持續(xù)的互聯(lián)產(chǎn)業(yè)生態(tài)，共同擘畫未來通信技術(shù)發(fā)展藍(lán)圖。

演講人信息

Wilfried Noell博士為炬光科技首席科學(xué)家，專注于集成光學(xué)、微技術(shù)、硅光子學(xué)和微型化光子系統(tǒng)的研究。他在光子行業(yè)擁有超過25年的經(jīng)驗(yàn)，曾擔(dān)任SUSS MicroOptics（現(xiàn)已更名為Focuslight Switzerland）資深科學(xué)家和研發(fā)總監(jiān)。Wilfried Noell博士擁有IMM Mainz / Uni Ulm的硅光子學(xué)傳感應(yīng)用博士學(xué)位，以及TU Darmstadt / Deutsche Telekom的物理學(xué)碩士學(xué)位。